AIT Associated Repository of Academic Resources: 新規ビニルシラン原料を用いてCVD法により成長させたSiC薄膜評価

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Title:	新規ビニルシラン原料を用いてCVD法により成長させたSiC薄膜評価
Other Titles:	シンキビニルシランゲンリョウオモイイテ CVDホウニヨリセイチョウサセタ SiC ハクマクヒョウカ
Authors:	竹内, 和歌奈 TAKEUCHI, Wakana
Keywords:	SiC 半導体電極水電解
Issue Date:	Nov-2020
Publisher:	愛知工業大学
URI:	http://hdl.handle.net/11133/3770
Appears in Collections:	（5）一般研究令和元年度研究成果概要

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総研22号一般研究成果概要04(p83-85).pdf		626.8 kB	Adobe PDF	View/Open