AIT Associated Repository of Academic Resources: 半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策

			English

このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://hdl.handle.net/11133/3752

タイトル:	半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策
その他のタイトル:	ハンドウタイデバイスセイゾウノウエットプロセスニオケルタイデンホウデンゲンショウノカイメイトソノタイサク
著者:	清家, 善之森, 竜雄五島, 敬史郎門村, 新吾日永, 康博窪, 慎二川畑, 隆広岩元, 勇人萩本, 賢哉齋藤, 卓 SEIKE, Yoshiyuki MORI, Tatsuo GOSHIMA, Keishiro KADOMURA, Shingo HIEI, Yasuhiro KUBO, Shinji KAWABATA, Takahiro IWAMOTO, Hayato HAGIMOTO, Yoshiya SAITO, Suguru
キーワード:	半導体洗浄磁場二流体スプレー静電気障害
発行日:	2020年11月
出版者:	愛知工業大学
URI:	http://hdl.handle.net/11133/3752
出現コレクション:	（2）プロジェクト共同研究令和元年度研究成果概要

このアイテムのファイル:

ファイル	記述	サイズ	フォーマット
総研22号プロジェクト共同研究成果概要02(p9-10).pdf		953.45 kB	Adobe PDF	見る/開く

このリポジトリに保管されているアイテムは、他に指定されている場合を除き、著作権により保護されています。