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http://hdl.handle.net/11133/3750
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Title: | 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究 |
Other Titles: | チョウオンパ センジョウ ギジュツ オ モチイタ ジセダイ ハンドウタイ デバイス ノ センジョウ ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ |
Authors: | 清家, 善之 森, 竜雄 本多, 祐二 疋田, 智美 佐藤, 正典 SEIKE, Yoshiyuki MORI, Tatsuo HONDA, Yuji HIKITA, Tomomi SATO, Masanori |
Keywords: | 半導体デバイス 超音波スプレー洗浄 ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子 洗浄 純水 エレクトロスプレー |
Issue Date: | Nov-2020 |
Publisher: | 愛知工業大学 |
URI: | http://hdl.handle.net/11133/3750 |
Appears in Collections: | (2)プロジェクト共同研究 令和元年度研究成果概要
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