AIT Associated Repository of Academic Resources: 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究

			日本語

Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11133/3750

Title:	超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
Other Titles:	チョウオンパセンジョウギジュツオモチイタジセダイハンドウタイデバイスノセンジョウギジュツニカンスルケンキュウ
Authors:	清家, 善之森, 竜雄本多, 祐二疋田, 智美佐藤, 正典 SEIKE, Yoshiyuki MORI, Tatsuo HONDA, Yuji HIKITA, Tomomi SATO, Masanori
Keywords:	半導体デバイス超音波スプレー洗浄ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子洗浄純水エレクトロスプレー
Issue Date:	Nov-2020
Publisher:	愛知工業大学
URI:	http://hdl.handle.net/11133/3750
Appears in Collections:	（2）プロジェクト共同研究令和元年度研究成果概要

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
総研22号プロジェクト共同研究成果概要03(p11-13).pdf		1.07 MB	Adobe PDF	View/Open