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（2）プロジェク共同研究 令和5年度研究成果概要 >
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http://hdl.handle.net/11133/4431
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| Title: | 高周波超音波振動体の周波数における洗浄能力解析 |
| Other Titles: | コウシュウハ チョウオンパ シンドウタイ ノ シュウハスウ ニオケル センジョウ ノウリョク カイセキ |
| Authors: | 清家, 善之
森, 竜雄
田岡, 紀之
一野, 祐亮
本多, 祐二
疋田, 智美
SEIKE, Yoshiyuki
MORI, Tatsuo
TAOKA, Noriyuki
ICHINO, Yusuke
HONDA, Yuji
HIKITA, Tomomi |
| Keywords: | 半導体デバイス
Chemical Mechanical Planarization（CMP）
Post-CMP クリーニング
超音波振動体
ポリスチレンラテックス（PSL）粒子 |
| Issue Date: | Nov-2024 |
| Publisher: | 愛知工業大学 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11133/4431 |
| Appears in Collections: | （2）プロジェク共同研究 令和5年度研究成果概要
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