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(2)プロジェク共同研究 令和4年度研究成果概要 >

Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11133/4256

Title: 半導体Chemical Mechanical Planarization(CMP)プロセスにおける新たな超音波技術の開発
Other Titles: ハンドウタイ Chemical Mechanical Planarization CMP プロセス ニオケル アラタナ チョウオンパ ギジュツ ノ カイハツ
Authors: 清家, 善之
森, 竜雄
一野, 祐亮
本多, 祐二
疋田, 智美
SEIKE, Yoshiyuki
MORI, Tatsuo
ICHINO, Yusuke
HONDA, Yuji
HIKITA, Tomomi
Keywords: 半導体デバイス
Chemical Mechanical Planarization(CMP)
Post-CMPクリーニング
超音波振動体
ポリスチレンラテックス(PSL)粒子
Issue Date: Nov-2023
Publisher: 愛知工業大学
URI: http://hdl.handle.net/11133/4256
Appears in Collections:(2)プロジェク共同研究 令和4年度研究成果概要

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