DSpace DSpace 日本語

AIT Associated Repository of Academic Resources >
A.研究報告 >
A2 総合技術研究所研究報告 >
24号 >
(2)プロジェク共同研究 令和3年度研究成果概要 >

Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11133/4124

Title: 次世代半導体デバイス洗浄における高周波石英振動体型超音波洗浄装置の開発とその評価技術に関する研究
Other Titles: ジセダイ ハンドウタイ デバイス センジョウ ニオケル コウシュウハ セキエイ シンドウタイガタ チョウオンパ センジョウ ソウチ ノ カイハツ ト ソノ ヒョウカ ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ
Authors: 清家, 善之
森, 竜雄
一野, 祐亮
本多, 祐二
疋田, 智美
SEIKE, Yoshiyuki
MORI, Tatsuo
ICHINO, Yusuke
HIKITA, Tomomi
Keywords: 石英振動体型超音波洗浄装置
Issue Date: Oct-2022
Publisher: 愛知工業大学
URI: http://hdl.handle.net/11133/4124
Appears in Collections:(2)プロジェク共同研究 令和3年度研究成果概要

Files in This Item:

File Description SizeFormat
総研24号プロジェクト共同研究成果概要01(p6-7).pdf827.27 kBAdobe PDFView/Open

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.


Valid XHTML 1.0! DSpace Software Copyright © 2002-2010  Duraspace - Feedback