AIT Associated Repository of Academic Resources: 半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策

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タイトル:	半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策
その他のタイトル:	ハンドウタイデバイスセイゾウノウエットプロセスニオケルタイデン・ホウデンゲンショウノカイメイトソノタイサク
著者:	清家, 善之森, 竜雄五島, 敬史郎日永, 康博窪, 慎二川畑, 隆広渡邊, 久倫岩元, 勇人萩本, 賢哉齋藤, 卓 SEIKE, Yoshiyuki MORI, Tatsuo GOSHIMA, Keishiro HIEI, Yasuhiro KUBO, Shinji KAWABATA, Takahiro WATANABE, Hisamichi IWAMOTO, Hayato HAGIMOTO, Yoshiya SAITO, Suguru
キーワード:	半導体洗浄磁場二流体スプレー静電気障害（ESD）
発行日:	2022年10月
出版者:	愛知工業大学
URI:	http://hdl.handle.net/11133/4123
出現コレクション:	（2）プロジェク共同研究令和3年度研究成果概要

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総研24号プロジェクト共同研究成果概要03(p10-11).pdf		918.27 kB	Adobe PDF	見る/開く

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