DSpace DSpace English
 

AIT Associated Repository of Academic Resources >
A.研究報告 >
A2 総合技術研究所研究報告 >
23号 >
(4)一般研究 令和2年度研究成果概要 >

このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://hdl.handle.net/11133/3967

タイトル: ビニルシランを用いたSiC薄膜形成のin-situリンドーピング原料探索
その他のタイトル: ビニルシラン オ モチイタ SiC ハクマク ケイセイ ノ in-situ リンドーピング ゲンリョウ タンサク
著者: 竹内, 和歌奈
TAKEUCHI, Wakana
キーワード: シリコンカーバイド(SiC)
半導体電極
発行日: 2021年11月
出版者: 愛知工業大学
URI: http://hdl.handle.net/11133/3967
出現コレクション:(4)一般研究 令和2年度研究成果概要

このアイテムのファイル:

ファイル 記述 サイズフォーマット
総研23号一般研究成果概要06(p74-75).pdf695.87 kBAdobe PDF見る/開く

このリポジトリに保管されているアイテムは、他に指定されている場合を除き、著作権により保護されています。

 

Valid XHTML 1.0! Powered by DSpace Software Copyright © 2002-2007 MIT and Hewlett-Packard - ご意見をお寄せください