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Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11133/3942

Title: 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
Other Titles: チョウオンパ センジョウ ギジュツ オ モチイタ ジセダイ ハンドウタイ デバイス ノ センジョウ ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ
Authors: 清家, 善之
森, 竜雄
本多, 祐二
疋田, 智美
佐藤, 正典
SEIKE, Yoshiyuki
MORI, Tatsuo
HONDA, Yuji
HIKITA, Tomomi
SATO, Masanori
Keywords: 半導体デバイス
石英振動体型超音波洗浄
超音波スプレー洗浄
ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子
洗浄
純水
エレクトロスプレー
Issue Date: Nov-2021
Publisher: 愛知工業大学
URI: http://hdl.handle.net/11133/3942
Appears in Collections:(2)プロジェクト共同研究 令和2年度研究成果概要

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