AIT Associated Repository of Academic Resources: 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究

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タイトル:	超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
その他のタイトル:	チョウオンパセンジョウギジュツオモチイタジセダイハンドウタイデバイスノセンジョウギジュツニカンスルケンキュウ
著者:	清家, 善之森, 竜雄本多, 祐二疋田, 智美佐藤, 正典 SEIKE, Yoshiyuki MORI, Tatsuo HONDA, Yuji HIKITA, Tomomi SATO, Masanori
キーワード:	半導体デバイス超音波洗浄ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子洗浄純水エレクトロスプレー
発行日:	2019年12月30日
出版者:	愛知工業大学
URI:	http://hdl.handle.net/11133/3621
出現コレクション:	（2）プロジェクト共同研究平成30年度研究成果概要

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総研21号プロジェクト共同研究成果概要03(p11-13).pdf		655.73 kB	Adobe PDF	見る/開く

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