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Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11133/3621

Title: 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
Other Titles: チョウオンパ センジョウ ギジュツ オ モチイタ ジセダイ ハンドウタイ デバイス ノ センジョウ ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ
Authors: 清家, 善之
森, 竜雄
本多, 祐二
疋田, 智美
佐藤, 正典
SEIKE, Yoshiyuki
MORI, Tatsuo
HONDA, Yuji
HIKITA, Tomomi
SATO, Masanori
Keywords: 半導体デバイス
超音波洗浄
ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子
洗浄
純水
エレクトロスプレー
Issue Date: 30-Dec-2019
Publisher: 愛知工業大学
URI: http://hdl.handle.net/11133/3621
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