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タイトル: 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
その他のタイトル: チョウオンパ センジョウ ギジュツ オ モチイタ ジセダイ ハンドウタイ デバイス ノ センジョウ ギジュツ ニ カンスル ケンキュウ
著者: 清家, 善之
森, 竜雄
本多, 祐二
疋田, 智美
佐藤, 正典
SEIKE, Yoshiyuki
MORI, Tatsuo
HONDA, Yuji
HIKITA, Tomomi
SATO, Masanori
キーワード: 半導体デバイス
超音波洗浄
ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子
洗浄
純水
エレクトロスプレー
発行日: 2019年12月30日
出版者: 愛知工業大学
URI: http://hdl.handle.net/11133/3621
出現コレクション:(2)プロジェクト共同研究 平成30年度研究成果概要

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