AIT Associated Repository of Academic Resources >
A.研究報告 >
A2 総合技術研究所研究報告 >
20号 >
(2)プロジェクト共同研究 平成29年度研究成果概要 >
このアイテムの引用には次の識別子を使用してください:
http://hdl.handle.net/11133/3401
|
タイトル: | 電子デバイスの純水スプレー洗浄工程における静電気発生防止技術の開発 |
その他のタイトル: | デンシ デバイス ノ ジュンスイ スプレー センジョウ コウテイ ニオケル セイデンキ ハッセイ ボウシ ギジュツ ノ カイハツ |
著者: | 清家, 善之 森, 竜雄 Eze, Vincent Obiozo 瀬川, 大司 小林, 義典 宮地, 計二 SEIKE, Yoshiyuki MORI, Tatsuo SEGAWA, Taishi KOBAYASHI, Yoshinori MIYACHI, Keiji |
キーワード: | 半導体デバイス 静電気障害 高圧スプレー 純水 ファラデーケージ 誘導帯電素子 |
発行日: | 2018年9月30日 |
出版者: | 愛知工業大学 |
URI: | http://hdl.handle.net/11133/3401 |
出現コレクション: | (2)プロジェクト共同研究 平成29年度研究成果概要
|
このリポジトリに保管されているアイテムは、他に指定されている場合を除き、著作権により保護されています。
|