AIT Associated Repository of Academic Resources: 超音波スプレー技術を用いた次世代半導体洗浄技術に関する研究

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タイトル:	超音波スプレー技術を用いた次世代半導体洗浄技術に関する研究
その他のタイトル:	チョウオンパスプレーギジュツオモチイタジセダイハンドウタイセンジョウギジュツニカンスルケンキュウ
著者:	清家, 善之本多, 祐二 SEIKE, Yoshiyuki HONDA, Yuji
キーワード:	半導体デバイス超音波洗浄ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子洗浄純水エレクトロスプレー
発行日:	2018年9月30日
出版者:	愛知工業大学
URI:	http://hdl.handle.net/11133/3392
出現コレクション:	（2）プロジェクト共同研究平成29年度研究成果概要

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総研20号プロジェクト共同研究成果概要11(p34-36).pdf		662.58 kB	Adobe PDF	見る/開く

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