DSpace DSpace 日本語
 

AIT Associated Repository of Academic Resources >
A.研究報告 >
A2 総合技術研究所研究報告 >
20号 >
(2)プロジェクト共同研究 平成29年度研究成果概要 >

Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/11133/3392

Title: 超音波スプレー技術を用いた次世代半導体洗浄技術に関する研究
Other Titles: チョウオンパ スプレー ギジュツ オ モチイタ ジセダイ ハンドウタイ センジョウ ギジュツ ニカンスル ケンキュウ
Authors: 清家, 善之
本多, 祐二
SEIKE, Yoshiyuki
HONDA, Yuji
Keywords: 半導体デバイス
超音波洗浄
ポリエスチレンラテックス(PSL)粒子
洗浄
純水
エレクトロスプレー
Issue Date: 30-Sep-2018
Publisher: 愛知工業大学
URI: http://hdl.handle.net/11133/3392
Appears in Collections:(2)プロジェクト共同研究 平成29年度研究成果概要

Files in This Item:

File Description SizeFormat
総研20号プロジェクト共同研究成果概要11(p34-36).pdf662.58 kBAdobe PDFView/Open

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

 

Valid XHTML 1.0! DSpace Software Copyright © 2002-2010  Duraspace - Feedback