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ブラウズ : 著者 清家, 善之
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| 発行日 | タイトル | 著者 |
| 2023年11月 | エネルギー変換・輸送材料の作製と最適化 | 森, 竜雄; 清家, 善之; 一野, 祐亮; MORI, Tatsuo; SEIKE, Yoshiyuki; ICHINO, Yusuke |
| 2020年11月 | グリーンエネルギーのための複合電力技術開拓の研究成果概要 | 雪田, 和人; 森, 竜雄; 鳥井, 昭宏; 清家, 善之; 津田, 紀生; 五島, 敬史郎; 河路, 友也; 糸井, 弘行; 大澤, 善美; 森田, 靖; 村田, 剛志; YUKITA, Kazuto; MORI, Tatsuo; TORII, Akihiro; SEIKE, Yoshiyuki; TSUDA, Norio; GOSHIMA, Keishiro; KAWAJI, Tomoya; ITOI, Hiroyuki; OZAWA, Yoshimi; MORITA, Yasushi; MURATA, Tsuyoshi |
| 2019年12月30日 | ペロブスカイト太陽電池の高性能化に関する研究 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 川野, 伸一; 船越, 孝雄; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; KAWANO, Shinichi; FUNAKOSHI, Takao |
| 2023年11月 | 高安定性REBCO超伝導導体に向けた導電性酸化物エピタキシャル中間層の開発 | 一野, 祐亮; 清家, 善之; 森, 竜雄; ICHINO, Yusuke; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo |
| 2022年10月 | 次世代半導体デバイス洗浄における高周波石英振動体型超音波洗浄装置の開発とその評価技術に関する研究 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 一野, 祐亮; 本多, 祐二; 疋田, 智美; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; ICHINO, Yusuke; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi |
| 2022年10月 | 新たな水素水生成装置の開発と半導体デバイス洗浄における評価 | 清家, 善之; 高瀬, 公男; 向畠, 眞一郎; 岩間, 善則; SEIKE, Yoshiyuki; TAKASE, Kimio; MUKOBATAKE, Shinichiro; IWAMA, Yoshinori |
| 2022年10月 | 太陽電池の発電力向上に向けた透明酸化物導電膜の作製 | 一野, 祐亮; 森, 竜雄; 清家, 善之; ICHINO, Yusuke; MORI, Tatsuo; SEIKE, Yoshiyuki |
| 2018年9月30日 | 超音波スプレー技術を用いた次世代半導体洗浄技術に関する研究 | 清家, 善之; 本多, 祐二; SEIKE, Yoshiyuki; HONDA, Yuji |
| 2019年12月30日 | 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 本多, 祐二; 疋田, 智美; 佐藤, 正典; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi; SATO, Masanori |
| 2020年11月 | 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 本多, 祐二; 疋田, 智美; 佐藤, 正典; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi; SATO, Masanori |
| 2021年11月 | 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 本多, 祐二; 疋田, 智美; 佐藤, 正典; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi; SATO, Masanori |
| 2018年9月30日 | 電子デバイスの純水スプレー洗浄工程における静電気発生防止技術の開発 | 清家, 善之; 森, 竜雄; Eze, Vincent Obiozo; 瀬川, 大司; 小林, 義典; 宮地, 計二; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; SEGAWA, Taishi; KOBAYASHI, Yoshinori; MIYACHI, Keiji |
| 2019年12月30日 | 電子デバイスの純水スプレー洗浄工程における静電気発生防止技術の開発 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 瀬川, 大司; 小林, 義典; 宮地, 計二; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; SEGAWA, Taishi; KOBAYASHI, Yoshinori; MIYACHI, Keiji |
| 2020年11月 | 電子デバイスの純水スプレー洗浄工程における静電気発生防止技術の開発 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 瀬川, 大司; 小林, 義典; 宮地, 計二; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; SEGAWA, Taishi; KOBAYASHI, Yoshinori; MIYACHI, Keiji |
| 2023年11月 | 半導体Chemical Mechanical Planarization(CMP)プロセスにおける新たな超音波技術の開発 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 一野, 祐亮; 本多, 祐二; 疋田, 智美; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; ICHINO, Yusuke; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi |
| 2020年11月 | 半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 五島, 敬史郎; 門村, 新吾; 日永, 康博; 窪, 慎二; 川畑, 隆広; 岩元, 勇人; 萩本, 賢哉; 齋藤, 卓; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; GOSHIMA, Keishiro; KADOMURA, Shingo; HIEI, Yasuhiro; KUBO, Shinji; KAWABATA, Takahiro; IWAMOTO, Hayato; HAGIMOTO, Yoshiya; SAITO, Suguru |
| 2022年10月 | 半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 五島, 敬史郎; 日永, 康博; 窪, 慎二; 川畑, 隆広; 渡邊, 久倫; 岩元, 勇人; 萩本, 賢哉; 齋藤, 卓; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; GOSHIMA, Keishiro; HIEI, Yasuhiro; KUBO, Shinji; KAWABATA, Takahiro; WATANABE, Hisamichi; IWAMOTO, Hayato; HAGIMOTO, Yoshiya; SAITO, Suguru |
| 2023年11月 | 半導体デバイス製造プロセスにおける静電気障害防止技術の確立 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 一野, 祐亮; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; ICHINO, Yusuke |
| 2021年11月 | 半導体デバイス洗浄における機械学習を用いた静電気障害の予知技術の確立 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 瀬川, 大司; 小林, 義典; 宮地, 計二; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; SEGAWA, Taishi; KOBAYASHI, Yoshinori; MIYACHI, Keiji |
| 2022年10月 | 半導体デバイス洗浄における機械学習を用いた静電気障害の予知技術の確立 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 一野, 祐亮; 瀬川, 大司; 加藤, 幹大; 宮地, 計二; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; ICHINO, Yusuke; SEGAWA, Taishi; KATO, Mikihiro; MIYACHI, Keiji |
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