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ブラウズ : 著者 本多, 祐二
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| 発行日 | タイトル | 著者 |
| 2023年11月 | アルミニウム合金の超音波照射による残留応力低減とその疲労寿命向上 | 武田, 亘平; 本多, 祐二; TAKEDA, Kohei; HONDA, Yuji |
| 2022年10月 | 次世代半導体デバイス洗浄における高周波石英振動体型超音波洗浄装置の開発とその評価技術に関する研究 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 一野, 祐亮; 本多, 祐二; 疋田, 智美; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; ICHINO, Yusuke; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi |
| 2019年12月30日 | 超音波を用いたコンクリート電柱検査に関する研究 | 岩月, 栄治; 小塚, 晃透; 本多, 祐二; 疋田, 智美; 佐藤, 正典; IWATSUKI, Eiji; KOZUKA, Teruyuki; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi; SATO, Masanori |
| 2018年9月30日 | 超音波スプレー技術を用いた次世代半導体洗浄技術に関する研究 | 清家, 善之; 本多, 祐二; SEIKE, Yoshiyuki; HONDA, Yuji |
| 2022年10月 | 超音波照射によるアルミ材料表面の残留応力低減 | 武田, 亘平; 本多, 祐二; 佐藤, 正典; TAKEDA, Kohei; HONDA, Yuji; SATO, Masanori |
| 2018年9月30日 | 超音波振動を用いたコンクリート構造物の検査に関する研究 | 岩月, 栄治; 小塚, 晃透; 本多, 祐二; IWATSUKI, Eiji; KOZUKA, Teruyuki; HONDA, Yuji |
| 2019年12月30日 | 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 本多, 祐二; 疋田, 智美; 佐藤, 正典; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi; SATO, Masanori |
| 2020年11月 | 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 本多, 祐二; 疋田, 智美; 佐藤, 正典; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi; SATO, Masanori |
| 2021年11月 | 超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 本多, 祐二; 疋田, 智美; 佐藤, 正典; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi; SATO, Masanori |
| 2023年11月 | 半導体Chemical Mechanical Planarization(CMP)プロセスにおける新たな超音波技術の開発 | 清家, 善之; 森, 竜雄; 一野, 祐亮; 本多, 祐二; 疋田, 智美; SEIKE, Yoshiyuki; MORI, Tatsuo; ICHINO, Yusuke; HONDA, Yuji; HIKITA, Tomomi |
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